日本精工とブイ・テクノロジー、液晶ディスプレイ製造向け新方式露光装置製造・販売で協力
液晶ディスプレイ製造向け新方式露光装置に関する
技術の実施許諾契約締結についてのお知らせ
日本精工株式会社（本社／東京都品川区 取締役 代表執行役社長 朝香聖一、以下 ＮＳＫ）と株式会社ブイ・テクノロジー（本社／神奈川県横浜市 代表取締役社長 杉本重人、以下 ブイ・テクノロジー）は、本日、新方式露光装置 ＥＧＩＳ（Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｓｙｓｔｅｍ Ｇｕｉｄｅｄ ｂｙ Ｉｍａｇｅ Ｓｅｎｓｏｒ）に関する技術の実施許諾契約を締結し、液晶ディスプレイ製造に適用される新方式露光装置ＥＧＩＳの製造・販売について協力していくことで合意しましたので、下記のとおり、お知らせいたします。
記
新方式露光装置ＥＧＩＳに関する技術実施許諾契約の締結および液晶ディスプレイ製造に適用されるＥＧＩＳの製造・販売について協力していくことの合意により、ブイ・テクノロジーが開発した技術に基づき、ＮＳＫが保有する露光装置に関する豊富なノウハウならびに独自の安定した露光装置の製造体制の下、液晶ディスプレイメーカーに新方式の露光装置ＥＧＩＳを提供することが可能となります。また、ＮＳＫが従来より提供してきたプロキシミティ方式の露光装置とＥＧＩＳとの同時提案が可能になり、お客様のより効率的な液晶ディスプレイ製造プロセス構築に貢献します。
１．業務協力の内容と狙い
両社は、ＮＳＫの持つ露光装置製造に関する技術とブイ・テクノロジーの持つ新方式露光装置ＥＧＩＳに関する技術を相互利用し、新方式の露光装置の製造・販売を実施します。液晶パネルメーカーは、ＥＧＩＳを導入することにより、マスクのランニングコストを下げるとともに、製造プロセスの信頼性や製造の歩留まりを向上させ、大型液晶基板の製造コストの大幅な削減が可能になります。
２．新方式の露光装置ＥＧＩＳの概要
液晶ディスプレイメーカーは、大型テレビ用ディスプレイパネルの生産効率向上のため、基板の大型化、新プロセスの採用等、設備投資を進めています。
ブイ・テクノロジーの開発した新方式の露光装置ＥＧＩＳは、小型マスクと画像検出ユニットからなる、Ｉｎ－ｓｉｔｕ Ｌｏｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍ（インサイチュ・ローカル・アライメント・システム）を採用し、露光位置に近接したガラス基板上のパターンを認識し、マスクの精密位置決め制御を実現しました。
３．今後の見通し
両社は新方式の露光装置ＥＧＩＳの製造・販売を協力して進め、２００７年８月の出荷開始を目指します。
また、現時点においては、ＮＳＫおよびブイ・テクノロジーともに、当該ＥＧＩＳに関する技術実施許諾契約の締結を含む業務協力が今期の業績に与える影響は軽微であると予想しております。
（※ 参考情報あり。）