レーザーテック、「液晶用大型フォトマスクインプロセス修正装置」を発売
新製品 液晶用大型フォトマスクインプロセス修正装置
「ＬＲ ５１」を発表
【概 要】
レーザーテックは、液晶用フォトマスクに対応する新製品液晶用大型フォトマスクインプロセス修正装置を製品化し、１月から受注を開始しました。
当社の主力製品である「大型フォトマスクパターン欠陥検査装置５１ＭＤシリーズ」、「５１ＭＤ用ペリクル検査・貼付けシステム ５１ＰＡ」に新製品「液晶用大型フォトマスクインプロセス修正装置」が加わることで、検査・修正・ペリクル貼付け工程のトータルソルーションをご提供することが可能となりました。なお、当新製品は２００７年度で約３台の受注を計画しています。
【背 景】
フォトマスクは、デバイスの回路パターン原版という性格上、常に高い品質が要求され、また歩留まりの向上は必須課題です。欠陥の修正部の品質に関しても、寸法精度や、修正材の接着性のみならず、レーザーリペアによる、ガラス部のダメージや汚れ、遮光部の膜特性等に関して、厳しい品質が要求されています。
レーザーテックでは、上記のような、大型フォトマスクの高品質化の要求に応えるため、大型フォトマスクインプロセス修正装置「ＬＲ５１」を製品化しました。本機は、レーザーリペアユニットと、修正液剤の微小塗布が可能な、高精度ディスペンサーの組み合わせにより、微小欠陥を高品質に修正する事ができます。
なお、高精度ディスペンス技術は、株式会社ハイパー・フォトン・システムの技術協力により実現しました。
【特 長】
●露光、現像後のマスクレジストパターンの白欠陥、および黒欠陥の修正をすることができます。レジストパターン状態でのリペアが可能であるため、エッチング後に実施する従来のリペアに比べ、レーザー照射によるガラス部のダメージや汚れがなく、さらに、遮光部の膜構造（ＣｒＯ／Ｃｒ）も維持できるため、高品質のリペアが可能になります。
●リペア部をカバーフィルムで保護する機構を搭載しており、レーザーリペア時に発生するデブリによるマスクの汚染を防ぐことができます。
●Ｍａｘ １５００ｍｍｘ１３００ｍｍの大型マスクを処理することができます。
【用 途】
●大型フォトマスク製造工程における、白欠陥、および黒欠陥の修正。
【構 成】
●・本体・制御用ＰＣ／コントロールボックス
【主な仕様】
本体サイズ（ｍｍ）：２６５０（Ｗ） ｘ ３０５０（Ｄ） ｘ ２９３１（Ｈ）
制御部寸法（ｍｍ）：９４０（Ｗ） ｘ ７００（Ｄ） ｘ ２０００（Ｈ）
本体重量（Ｋｇ） ：６０００
基板サイズ（ｍｍ）：１５００ ｘ １３００
基本機能：レーザーによる黒欠陥修正機能
高精度ディスペンサーによる白欠陥修正機能
【標準販売価格】
●約 １．９億円（価格は仕様により異なります）
【受注・販売目標台数】
●２００７年度 受注台数 約３台
【受注開始時期】
●２００７年１月