昭和電工、窒化ガリウム系青色ＬＥＤ素子の生産能力を増強
窒化ガリウム系青色ＬＥＤ素子生産能力の追加増強について
昭和電工株式会社（社長：高橋 恭平）は、２００８年６月までに、千葉事業所における窒化ガリウム系青色ＬＥＤ素子の生産能力を月産２億個までに引き上げることを決定いたしました。同事業所では２００７年２月時点で月産３０百万個の生産能力を、今年末までに１億個に引き上げる工事の実施中であり（２００７年２月２０日付け当社ニュースリリースご参照）、現時点の生産能力は６０百万個となっております。現在、予想を上回る受注を頂いていることから、今般、新たに５０億円の追加設備投資を前倒しで行うことといたしました。
窒化ガリウム系青色ＬＥＤは、現在、主に携帯電話、ディスプレイなどに使用されていますが、さらに液晶バックライト等への用途開発が進んでおり、今後５年間では年率２０％近い成長が期待されています。本年に入りお客様からの受注が急増し、供給のご要請に的確にお応えするために、スケジュールを早めて生産能力の増強を行います。
本ＬＥＤ素子の製造には、従来のＭＯＣＶＤ法＊１と当社が開発したＰＰＤ（ＴＭ）（Ｐｌａｓｍａ ａｓｓｉｓｔｅｄ Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法＊２とを組み合わせた当社の独自技術による「ハイブリッドＰＰＤ（ＴＭ）法」を用いております。これにより、従来ＭＯＣＶＤ法では困難とされていた４インチウェハーでの生産を可能としました。当社は、「ハイブリッドＰＰＤ（ＴＭ）法」によりＬＥＤ素子の品質向上と競争力強化に努めるとともに、ＬＥＤ素子出力レベルにおいて世界トップクラスを目指します。
当社は現在推進中の中期経営計画「プロジェクト・パッション」において、窒化ガリウム系ＬＥＤ（青・緑色）や、アルミニウム、ガリウム、インジウム、リンの四つの元素化合物から構成される４元系超高輝度ＬＥＤ（赤・オレンジ・黄・黄緑色）を"育成事業"と位置づけ、積極的な資源投入を行っています。当社は、これらの超高輝度ＬＥＤ素子の売上高を、２００８年には２００億円にすることを目標としております。
＊１ ＭＯＣＶＤ法：有機金属化学気相成長法（Ｍｅｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）の略。化合物半導体結晶の製造方法として最も一般的な結晶成長方法。
＊２ ＰＰＤ（ＴＭ）法：プラズマ物理気相成長法（Ｐｌａｓｍａ ａｓｓｉｓｔｅｄ Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）の略。当社が窒化物半導体結晶用に開発した結晶成長技術。
以上