ニコン、大手半導体メーカーに４５ナノメートル量産対応の液浸スキャナーを提供
大手半導体メーカーが、４５ナノメートルノードの量産にニコンの液浸スキャナーを採用
ニコン、世界で初めて４５ナノメートル対応の液浸装置を出荷
株式会社ニコン（社長苅谷道郎）は２００７年２月、世界で初めて４５ナノメートル量産対応の液浸露光装置を出荷しました。業界最大のＮＡ１．３０の投影光学系を搭載したＡｒＦ液浸スキャナー「ＮＳＲ－Ｓ６１０Ｃ」が、大手半導体メーカーに出荷されました。同機は４５ナノメートルデバイスの量産対応として開発され、３２ナノメートルデバイス開発及びダブルパターニングの開発にも対応します。今回の採用は、ニコンが他社に先駆け、同機をいち早く市場に導入したこと、そして液浸起因による欠陥を完全に防ぐとともに、従来のドライタイプと同等の重ね合わせ精度を実現したニコンの液浸露光技術が認められたものです。
●販売概要
商品名：ニコン液浸スキャナー「ＮＳＲ－Ｓ６１０Ｃ」
出荷開始時期：２００７年２月
ＮＳＲ－Ｓ６１０Ｃは、ニコンがこれまで培った液浸露光技術を生かし開発されました。ニコン独自のローカルフィルノズルにより、気泡やウォーターマーク、ウエハ裏面の汚れといったスキャナー起因の液浸による欠陥を完全に除去できることが実証されています。同技術により液浸用液体の蒸発を抑えることができ、重ね合わせ精度に影響する液浸起因の問題の防止において、決定的な優位性を発揮します。またニコン独自のタンデムステージは、露光とキャリブレーション機能を分担した２つのステージを利用して、高スループットと高精度を実現し、安定した露光プロセスを達成しています。
●株式会社ニコン常務取締役兼上席執行役員精機カンパニープレジデント
牛田一雄のコメント
「２００６年はニコンの液浸事業にとって素晴らしい年となりました。１月には世界で初めて量産対応液浸装置ＮＳＲ－Ｓ６０９Ｂを出荷し、年間を通して大手半導体メーカー数社にニコンの装置を納入しました。そして今回も大手半導体メーカーの機種選定において競合装置メーカを抑え、ニコンの液浸露光装置を採用していただきました。今回のＮＳＲ－Ｓ６１０Ｃの出荷は、昨年に引き続きニコンのテクノロジー・リーダーとしての確固たる地位をより強固なものにしたと言えます。」