信越化学と凸版印刷、４５ｎｍ・３２ｎｍ対応の新フォトマスクブランクスを共同開発
信越化学、凸版印刷
４５ｎｍ、３２ｎｍ対応 最先端フォトマスクブランクスを共同開発
信越化学工業株式会社（本社：東京都千代田区、社長：金川千尋 以下、信越化学）と凸版印刷株式会社（本社：東京都千代田区、代表取締役社長：足立直樹、以下、凸版印刷）は、４５ｎｍ、３２ｎｍに対応するフォトマスクブランクスを共同開発いたしました。これにより、フォトマスクの微細加工精度が大幅に高まり、高精度かつ信頼性の高い最先端フォトマスクの供給が可能となります。新フォトマスクブランクスおよび新フォトマスクブランクスを用いたフォトマスクサンプルの出荷を順次開始しており、お客様より高いご評価をいただいております。
・半導体は、携帯電話などのモバイル機器やデジタル機器の性能向上のために、高速化、低消費電力化に向け４５ｎｍ、３２ｎｍと微細化に向けた技術開発が活発化しています。微細化に伴い、半導体製造プロセス開発の難易度が高まり、材料や装置を含めた総合的な開発が必須となっており、回路原版となるフォトマスクの重要性も増しています。
・最先端フォトマスクの技術開発においては、その基材となるフォトマスクブランクスの性能向上やそれに合わせたフォトマスク製造プロセスの構築が不可欠で、早期に開発し製品を提供することが重要となります。
・このような背景から、シリコンウエハーの世界Ｎｏ．１企業であり、フォトマスク用合成石英および特殊レジストを手がける信越化学工業とフォトマスクの世界Ｎｏ．１企業である凸版印刷は、最先端フォトマスクブランクスの共同開発に取り組み、新たな製品の開発に成功。また、フォトマスクの製造においては、新フォトマスクブランクスに適した新プロセスを開発し、高精度の微細加工を実現しました。
これにより、信越化学工業は、ハイエンドフォトマスクブランクス事業に進出し、さらに最先端分野を強化していくことになります。
凸版印刷はこれまで以上に高い精度と信頼性を実現した先端フォトマスクを供給していきます。
【 本製品について 】
・開発においては信越化学がフォトマスクブランクス開発、凸版印刷が開発品の評価ならびにフォトマスク製造の新プロセス開発を担当。従来のフォトマスクブランクスをコンセプトから見直し、従来製品にない革新的な材料構成を実現しました。
・新フォトマスクブランクスは優れたエッチング特性を有しており、フォトマスク製造では、その特性を引き出すための新プロセスを確立し、４５ｎｍ、３２ｎｍで要求される高い精度の製品を安定的に製造することを可能としました。
・半導体メーカーがこのフォトマスクブランクスで製造された高精度なフォトマスクを使用することで、最先端半導体の製造プロセス構築段階に行う、フォトマスクとの最適化に要する時間が短縮されるものと期待されます。
■信越化学について
信越化学は、半導体シリコンウエハーの世界トップ企業であり、またフォトレジストや半導体封止材料、フォトマスク基板など、前工程から後工程まで半導体製造工程全般に不可欠な材料を供給しています。電子材料、光学材料から有機・無機化学品まで、幅広い分野で世界トップシェアの製品を有し、各事業をグローバルに展開しております。
信越化学に関する情報はhttp://www.shinetsu.co.jp/でご覧いただけます。
■凸版印刷について
凸版印刷は、世界トップのフォトマスクメーカーであり、最先端フォトマスクを提供することで半導体メーカーの最先端プロセスの立ち上げから量産までに寄与してきました。ワールドワイドに生産拠点を展開し、日本、米国、欧州、アジア各国で高品質な製品をタイムリーに提供できる、世界唯一のグローバルフォトマスクメーカーです。
凸版印刷に関する情報はhttp://www.toppan.co.jp/でご覧いただけます。
以 上